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CRF-APO-R&D-DXX-022等離子表面處理機(jī)

常壓等離子表面處理機(jī)可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶使用空間;可In-Line...
產(chǎn)品內(nèi)容
技術(shù)參數(shù)

常壓等離子表面處理機(jī)可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;
設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶使用空間;
可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;
使用壽命長(zhǎng),保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制。

等離子處理設(shè)備主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

 

1、灰化表面有機(jī)層:

材料表面將遭受化學(xué)轟擊;受到高溫狀態(tài)下污染物會(huì)蒸發(fā)出來;環(huán)境污染物質(zhì)在較高能正離子的沖擊性下被破碎,隨后釋放出。

因?yàn)榈入x子每秒鐘只有透過數(shù)納米薄厚,因而污染層不可以太厚。

 

2、等離子清洗設(shè)備用以除去金屬氧化物:

氧化物與處理的氣體產(chǎn)生化學(xué)變化,這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時(shí)也選用二步生產(chǎn)加工技術(shù),開始用氧氣將表層氧化五分鐘,隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。

 

3、等離子蝕刻用于焊接:

一般狀況下,印刷電路板在焊接前用有機(jī)化學(xué)助焊劑處理。這種化學(xué)物焊后需要用等離子法去除,不然會(huì)產(chǎn)生腐蝕等問題。

 

4、等離子去膠、鍵合:

電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會(huì)消弱優(yōu)良鍵合,這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會(huì)危害鍵合的品質(zhì),也是需要等離子清洗。



榮譽(yù)資質(zhì)
高新技術(shù)企業(yè)證書

高新技術(shù)企業(yè)證書

Certificate of Compl

Certificate of Compl

Verification of Conf

Verification of Conf

Certificate of Compl

Certificate of Compl

名稱

(Name)

噴射型AP等離子處理系統(tǒng)

(Jet type plasma processing system)

等離子電源型號(hào)

(Plasma power   model)

CRF-APO-R&D-DXX-022

直噴式等離子噴槍型號(hào)

(Direct jet type plasma spray gun modet)

直噴式:DXX

(Option:2mm-6mm)

電源

(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率

(Power)

1000W/25KHz(Option)

功率因素

(Power factor)

0.8

處理高度

(Processing   height)

5-15mm


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