CRF-APO-R&D-RXX-2020常壓等離子清洗機是一款專為高效、精確的表面清洗需求設計的專業設備，適用于多種材料表面的清洗、活化及改性處理。該設備能夠在常壓環境下操作，提供了一種靈活且高效的解決方案，用于去除材料表面的有機污染物、提高表面活性或進行表面預處理以便后續加工。
這款清洗機配備了先進的控制系統，允許用戶根據不同的材料和工藝要求精確調整功率輸出、氣體流量和其他關鍵參數，確保最佳的清洗效果。它支持多種工藝氣體，如氧氣、氬氣等，以適應不同類型的表面處理需求。CRF-APO-R&D-RXX-2020采用了高效的冷卻系統，即使在長時間連續工作的情況下也能保持穩定性能，減少了因過熱引起的停工時間和維護成本。
CRF-APO-R&D-RXX-2020具有直觀的操作界面，使得設置和調整變得簡單快捷，非常適合實驗室研究及工業生產中的應用場景。無論是進行小規模實驗還是大規模工業生產，它都能提供強有力的支持，幫助實現高質量的表面處理。廣泛應用于電子制造、半導體加工、醫療設備制造等領域，在提升產品表面質量方面發揮著重要作用。通過使用CRF-APO-R&D-RXX-2020常壓等離子清洗機，用戶可以顯著改善材料表面特性，從而增強產品的性能和耐用性。
榮譽資質
高新技術企業證書
Certificate of Compl
Verification of Conf
Certificate of Compl
名稱 （Name） | 噴射型AP等離子處理系統 （Jet type plasma processing system） |
等離子電源型號 （Plasma power model） | CRF-APO-R＆D-DXX-PW |
電源 （Power supply） | 220V/AC,50/60Hz |
功率 （Power） | 1000W/25KHz （Option） |
功率因素 （Power factor） | 0.8 |
內部控制模式 （Internal control mode） | 數字控制 （Digital control） |
外部控制模式 （External conteol mode） | 啟停I/O （ON/OFF I/O） |
工作氣體 （Gas） | Compressed Air （0.4mpa）/N2 |
