CRF-APO-500W-C XY全自動等離子清洗機是一款專為高精度和自動化表面處理需求設計的先進設備,適用于多種材料的清洗、活化及表面改性。該設備結合了高效的等離子處理能力和全自動XY平臺控制系統,能夠實現大面積、高精度的表面處理任務。
主要特點
高效等離子處理:CRF-APO-500W-C提供500W的功率輸出,確保了高效的等離子處理能力,適用于各種復雜的表面處理需求。
精準控制:配備了先進的控制系統,允許用戶根據不同的材料和工藝需求精確調整功率輸出、氣體流量及其他關鍵參數,以確保最佳處理效果。
多功能應用:支持多種工藝氣體(如氧氣、氬氣等),增強了對不同應用環境的適應性,適用于清洗、活化、蝕刻等多種表面處理操作。
全自動XY平臺:集成的全自動XY平臺可以編程控制處理路徑,非常適合大規模生產中的精細作業。它極大地提高了工作效率和處理的一致性,減少了人工干預的需求。
高效冷卻系統:采用了高效的冷卻技術,即使在長時間運行下也能保持穩定性能,減少因過熱引起的停工時間和維護成本。
直觀的操作界面:具有用戶友好的操作界面,使得設置和調整變得簡單快捷,適合從實驗室研究到工業生產的廣泛應用。
應用領域
CRF-APO-500W-C廣泛應用于電子制造、半導體加工、醫療設備制造等領域,在提升產品表面質量和耐用性方面發揮著重要作用。無論是進行小規模實驗還是大規模工業生產,這款設備都能提供強有力的支持,幫助實現高質量的表面處理。通過使用CRF-APO-500W-C XY全自動等離子清洗機,用戶不僅能顯著改善材料表面特性,還能探索更多新材料及其潛在的應用可能性。其靈活性和可靠性使其成為對表面質量和清潔度有嚴格要求的應用中的理想選擇。特別是在需要高精度和重復性的應用場景中,CRF-APO-500W-C表現出了卓越的性能和效率。
榮譽資質
高新技術企業證書
Certificate of Compl
Verification of Conf
Certificate of Compl
名稱 (Name) | 自動On-Line式(履帶式)AP等離子處理系統 |
型號 (Model) | CRF-APO-500W-C |
電源 (Power supply) | 220V/AC,50/60Hz |
等離子功率 (Power) | 2set*1000W/25KHz(Option) |
處理寬幅 (Processing width) | 50-500mm(Option) |
有效處理高度 (Processing height) | 5-15mm |
處理速度 (Processing speed) | 0-5m/min |
傳動方式 (Drive mode ) | 防靜電絕緣傳送帶 |
噴頭數量 (Number) | 2(Option) |
工作氣體 (Gas) | Compressed Air(0.4mpa) |



