CRF-VPO-4L-S真空等離子清洗機是一款專為高效、精密的表面處理需求設計的專業設備，特別適用于需要在真空環境下進行的清洗、活化和表面改性任務。這款設備能夠在低壓條件下操作，提供了一種有效的解決方案，用于去除材料表面的有機污染物、提高表面活性或進行表面預處理以便后續加工。
CRF-VPO-4L-S配備了先進的控制系統，允許用戶根據不同的材料和工藝要求精確調整功率輸出、氣體流量及其他關鍵參數，確保最佳處理效果。它支持多種工藝氣體，如氧氣、氬氣等，以適應不同類型的表面處理需求。該清洗機采用了高效的真空泵系統和冷卻機制，保證了即使在長時間運行下也能保持穩定的性能，減少了因過熱或真空度不足導致的問題。
這款設備具有直觀易用的操作界面，使得設置和調整變得簡單快捷，非常適合實驗室研究及工業生產中的應用場景。無論是進行小規模實驗還是大規模工業生產，CRF-VPO-4L-S都能提供強有力的支持，幫助實現高質量的表面處理。其廣泛應用于電子制造、半導體加工、醫療設備制造等領域，在提升產品表面質量方面發揮著重要作用。
通過使用CRF-VPO-4L-S真空等離子清洗機，用戶可以顯著改善材料表面特性，從而增強產品的性能和耐用性，并探索更多新材料及其潛在的應用可能性。此外，其穩定性和靈活性使其成為科研開發和工業生產的理想選擇，特別是在對表面質量和清潔度有嚴格要求的應用中。
榮譽資質
高新技術企業證書
Certificate of Compl
Verification of Conf
Certificate of Compl
名稱（Name） | 真空式等離子處理系統 |
型號（Model） | CRF-VPO-4L-S |
控制系統（Control system） | PLC+觸摸屏 |
電源（Power supply） | 380V/AC,50/60Hz, 3kw |
中頻電源功率（RF Power） | 1000W/40KHz/13.56MHz |
容量（Volume ） | 30L(Option) |
層數（Electrode of plies ） | 4(Option) |
有效處理面積（Area） | 200(L)*150(W)(Option) |
氣體通道（Gas） | 兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2 |
