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CRF-APO-R&D-DXX-PW等離子表面處理機

CRF-APO-R&D-DXX-PW等離子表面處理機是一款專為高效、精確的表面處理需求設計的專業設備,適用于材料表面的清洗、活化、蝕刻和涂層等工藝。該設備提供精...
定制方案
產品內容
技術參數

CRF-APO-R&D-DXX-PW等離子表面處理機是一款專為高效、精確的表面處理需求設計的專業設備,適用于材料表面的清洗、活化、蝕刻和涂層等工藝。該設備提供精準的功率調節和氣體流量控制,確保根據不同的材料和工藝要求調整參數以達到最佳效果。支持多種工藝氣體,適應不同類型的表面處理需求。其高效的冷卻系統保證長時間運行的穩定性和可靠性,減少了維護成本和停機時間。CRF-APO-R&D-DXX-PW具有直觀易用的操作界面,便于快速設置和調整參數,適合從實驗室研發到工業生產的廣泛應用。這款設備廣泛應用于電子制造、半導體加工、醫療設備制造等領域,在提高產品表面質量方面發揮重要作用。通過使用CRF-APO-R&D-DXX-PW,用戶可以實現高質量的表面處理,提升產品的性能和耐用性。

榮譽資質
高新技術企業證書

高新技術企業證書

Certificate of Compl

Certificate of Compl

Verification of Conf

Verification of Conf

Certificate of Compl

Certificate of Compl

名稱

(Name)

噴射型AP等離子處理系統

(Jet type plasma processing system)

等離子電源型號

(Plasma power   model)

CRF-APO-R&D-DXX-PW

電源

(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率

(Power)

1000W/25KHz

(Option)

功率因素

(Power factor)

0.8

內部控制模式

(Internal control mode)

數字控制

(Digital control)

外部控制模式

(External conteol mode)

啟停I/O

(ON/OFF I/O)

工作氣體

(Gas)

Compressed Air (0.4mpa)/N2


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