CRF-APO-R&D-DXX-PW等離子表面處理機是一款專為高效、精確的表面處理需求設計的專業設備,適用于材料表面的清洗、活化、蝕刻和涂層等工藝。該設備提供精準的功率調節和氣體流量控制,確保根據不同的材料和工藝要求調整參數以達到最佳效果。支持多種工藝氣體,適應不同類型的表面處理需求。其高效的冷卻系統保證長時間運行的穩定性和可靠性,減少了維護成本和停機時間。CRF-APO-R&D-DXX-PW具有直觀易用的操作界面,便于快速設置和調整參數,適合從實驗室研發到工業生產的廣泛應用。這款設備廣泛應用于電子制造、半導體加工、醫療設備制造等領域,在提高產品表面質量方面發揮重要作用。通過使用CRF-APO-R&D-DXX-PW,用戶可以實現高質量的表面處理,提升產品的性能和耐用性。
榮譽資質
高新技術企業證書
Certificate of Compl
Verification of Conf
Certificate of Compl
名稱 (Name) | 噴射型AP等離子處理系統 (Jet type plasma processing system) |
等離子電源型號 (Plasma power model) | CRF-APO-R&D-DXX-PW |
電源 (Power supply) | 220V/AC,50/60Hz |
功率 (Power) | 1000W/25KHz (Option) |
功率因素 (Power factor) | 0.8 |
內部控制模式 (Internal control mode) | 數字控制 (Digital control) |
外部控制模式 (External conteol mode) | 啟停I/O (ON/OFF I/O) |
工作氣體 (Gas) | Compressed Air (0.4mpa)/N2 |



