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CRF-APO- 500W-XN全自動等離子活化設(shè)備

設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù) “清洗表層”是大氣等離子清洗機(jī)技術(shù)的關(guān)鍵,簡易地說清洗表層便是在待處理材料的表層打出成千上萬人眼看不到的小孔,同時(shí)在表層產(chǎn)生一層新的氧化...
產(chǎn)品內(nèi)容
技術(shù)參數(shù)
設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

      “清洗表層”是大氣等離子清洗機(jī)技術(shù)的關(guān)鍵,簡易地說清洗表層便是在待處理材料的表層打出成千上萬人眼看不到的小孔,同時(shí)在表層產(chǎn)生一層新的氧化膜,這樣就可以增大了材料的表面積,間接提升了材料表層的黏附性、相溶性、浸潤性、擴(kuò)散性等。并且這種特性非常好的運(yùn)用于手機(jī)、電視、微電子技術(shù)、半導(dǎo)體材料、汽車等領(lǐng)域,為很多公司解決了很多年未處理的難點(diǎn)。

       等離子中加工處理存有著很多的混合氣體分子結(jié)構(gòu)、電子器件和離子外,還存有很多受激發(fā)的中性原子、原子團(tuán)氧自由基及等離子射出去的光束。等離子清潔是充分利用離子、電子器件、受激原子、氧自由基以及射出去的光束與被清潔外表的污染物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)分別出現(xiàn)活化反映而因此將污染物質(zhì)消除的全過程。

CRF-APO- 500W-XN全自動等離子活化設(shè)備(圖1)

榮譽(yù)資質(zhì)
高新技術(shù)企業(yè)證書

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