CRF-APO-RP1022-D常壓等離子清洗機(jī)是一款專為高效、精確表面處理需求設(shè)計(jì)的專業(yè)設(shè)備，適用于多種材料表面的清洗、活化和改性。該設(shè)備能夠在常壓環(huán)境下操作，提供了一種靈活且高效的解決方案，用于去除材料表面的有機(jī)污染物、提高表面活性或進(jìn)行表面預(yù)處理以便后續(xù)加工。
CRF-APO-RP1022-D配備了先進(jìn)的控制系統(tǒng)，允許用戶根據(jù)不同的材料和工藝要求精細(xì)調(diào)整功率輸出、氣體流量及其他關(guān)鍵參數(shù)，確保最佳處理效果。它支持多種工藝氣體，如氧氣、氬氣等，以適應(yīng)不同類型的表面處理需求。這款清洗機(jī)采用了高效的冷卻系統(tǒng)，即使在長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)工作的情況下也能保持穩(wěn)定性能，減少因過(guò)熱引起的停工時(shí)間和維護(hù)成本。
該設(shè)備具有直觀易用的操作界面，使得設(shè)置和調(diào)整變得簡(jiǎn)單快捷，非常適合實(shí)驗(yàn)室研究及工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用場(chǎng)景。無(wú)論是進(jìn)行小規(guī)模實(shí)驗(yàn)還是大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)，CRF-APO-RP1022-D都能提供強(qiáng)有力的支持，幫助實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的表面處理。其廣泛應(yīng)用于電子制造、半導(dǎo)體加工、醫(yī)療設(shè)備制造等領(lǐng)域，在提升產(chǎn)品表面質(zhì)量方面發(fā)揮重要作用。通過(guò)使用CRF-APO-RP1022-D常壓等離子清洗機(jī)，用戶可以顯著改善材料表面特性，從而增強(qiáng)產(chǎn)品的性能和耐用性，并探索更多新材料及其潛在的應(yīng)用可能性。此外，其可靠性和靈活性使其成為科研開發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)的理想選擇。
榮譽(yù)資質(zhì)
高新技術(shù)企業(yè)證書
Certificate of Compl
Verification of Conf
Certificate of Compl
名稱（Name） | 噴射型AP等離子處理系統(tǒng)（Jet type plasma processing system） |
等離子電源型號(hào)（Plasma power model） | CRF-APO-RP1022-D |
旋轉(zhuǎn)噴式等離子噴槍型號(hào)（Direct jet type plasma spray gun modet） | 旋噴式：RXX（Option:20mm-80mm） |
電源（Power supply） | 220V/AC,50/60Hz |
功率（Power） | 600-1000W/25KHz（Option） |
功率因素（Power factor） | 0.98 |
處理高度（Processing height） | 5-15mm |
處理寬幅（Processing width） | 旋噴式：20-80mm（Option） |
內(nèi)部控制模式（Internal control mode） | 數(shù)字控制 |
外部控制模式（External control mode） | RS485/RS232、模擬通訊口、 啟停I/O |
工作氣體（Gas） | Compressed Air （0.4mpa）/N2（0.2mpa） |
電源重量（Power weight） | 10kg |
